レジスト材料の基礎とプロセス最適化

レジスト材料の基礎とプロセス最適化

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出版社
シーエムシー・リサーチ
著者名
河合晃
価格
88,000円(本体80,000円+税)
発行年月
2024年11月
判型
A4
ISBN
9784910581101

★半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に関する基盤技術やノウハウを集約した書籍です。

【本書の特徴】
● 半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないレジスト材料について。
● フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理装置までを幅広く網羅
● デバイス製品規格をクリアできる技術の基礎およびノウハウの習得を目指す
● パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に必須な技術まで詳述
● フォトレジスト材料の品質向上やプロセスの最適化といった課題の解決を支える
● フォトレジストに関する基盤技術やノウハウを集約した機能的な一冊

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