最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術《普及版》

エレクトロニクスシリーズ

最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術《普及版》

出版社よりお取り寄せ(通常3日~20日で出荷)
※20日以内での商品確保が難しい場合、キャンセルさせて頂きます

出版社
シーエムシー出版
著者名
河合晃
価格
5,280円(本体4,800円+税)
発行年月
2024年8月
判型
B5
ISBN
9784781317748

フォトレジスト材料および露光技術の特長を最大限に発揮させるためのレジストプロセス技術の最適化を徹底解説した1冊。

お気に入りカテゴリ

よく利用するジャンルを設定できます。

≫ 設定

カテゴリ

「+」ボタンからジャンル(検索条件)を絞って検索してください。
表示の並び替えができます。

page top