次世代半導体素材ＧａＮの挑戦

次世代半導体の材料は窒化ガリウムへ――日本人がノーベル賞を獲った青色発光ダイオードの材料だ。窒化ガリウムを使ったデバイスは、社会で電気を使う全ての物に使われるようになり、社会システムを根底から変え、２１世紀最大の産業になる！　国際的な論文の引用件数などで危機を叫ばれる日本の基礎研究ではあるが、企業は技術をブラックボックス化し、戦略的に論文発表を抑えているのが実状だ。日本の「産学」が未来を創成する！


　次世代半導体の材料は、シリコンから窒化ガリウムへ――日本人がノーベル賞を獲った青色発光ダイオードの材料だ。窒化ガリウムを使ったデバイスは、社会で電気を使う全ての物に使われるようになり、社会システムを根底から変える。そして、自動車はもちろん、電車や飛行機、それにロケットにも使われる。そう、２１世紀最大の産業になり得るのだ！
　国際的な論文の引用件数などで危機を叫ばれる日本の基礎研究ではあるが、実はむしろレベルアップしている。いま企業は技術をブラックボックス化して、戦略的に論文発表を抑えているのだ。実際、日本企業には面白い技術の種が多々ある。この技術とこの技術を組み合わせれば新しいビジネスが生まれるというケースも激増しつつある。
著者がセンター長を務める未来エレクトロニクス研究センターでは、技術の上流から下流までを一つに捉えるため、バラバラだった研究室を一体化した。新しい材料を開発し、その材料で素子を作り、その素子を使って面白いシステムを作るため、企業も４０社以上が参画している。
　いま企業が求めているのは、「産官学ではなく産産産学」。実際、開発中の半導体については、半導体メーカーだけでなく装置メーカーやセットメーカーも参画している。「仕組み」がないと企業同士は本音で話せないが、名古屋大学では自由に話せる。こうして大学が旗振り役になり、日本で、２２世紀を変えるイノベーションが生まれるのだ。