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ナノテクノロジーとレジスト材料

シーエムシー出版

山岡亜夫

ナノテクノロジーとレジスト材料

ＣＭＣテクニカルライブラリー　２５６

定価: 3,960円（本体3,600円+税）

発行年月：2007年4月

ISBN：9784882319214

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フォトポリマーの基礎と応用

シーエムシー出版

山岡亜夫

フォトポリマーの基礎と応用

ＣＭＣテクニカルライブラリー　１３６

定価: 4,730円（本体4,300円+税）

発行年月：2003年3月

ISBN：9784882317876

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半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック

リアライズ理工センター

山岡亜夫

半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック

定価: 36,300円（本体33,000円+税）

発行年月：1996年7月

ISBN：9784947655899

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新しいレジスト材料とナノテクノロジー

シーエムシー出版

山岡亜夫

新しいレジスト材料とナノテクノロジー

エレクトロニクス材料・技術シリーズ　

定価: 71,500円（本体65,000円+税）

発行年月：2002年9月

ISBN：9784882313670

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実用高分子レジスト材料の新展開

シーエムシー出版

山岡亜夫

実用高分子レジスト材料の新展開

定価: 73,645円（本体66,950円+税）

発行年月：1997年1月

ISBN：9784882311577

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高分子工業化学

朝倉書店

山岡亜夫 ,上田充

高分子工業化学

応用化学シリーズ　３

定価: 3,080円（本体2,800円+税）

発行年月：2003年12月

ISBN：9784254255836

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感光性樹脂

共立出版

山岡亜夫 ,森田浩

感光性樹脂

高分子新素材ｏｎｅ　ｐｏｉｎｔ　８

定価: 1,430円（本体1,300円+税）

発行年月：1988年5月

ISBN：9784320042322

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情報記録

大日本図書

小門宏 ,山岡亜夫

情報記録

新産業化学シリーズ　

定価: 3,960円（本体3,600円+税）

発行年月：1998年12月

ISBN：9784477009605

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フォトポリマー・テクノロジー

日刊工業新聞社

山岡亜夫 ,永松元太郎

フォトポリマー・テクノロジー

定価: 11,000円（本体10,000円+税）

発行年月：1988年12月

ISBN：9784526024573

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